Questão número 45056
Química - Práticas Laboratoriais em química - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
As coberturas antirrefletoras (ARC) em fotolitografia são utilizadas para
- A. reduzir as ondas estacionárias em fotorresistes.
- B. reduzir a dose do UV nos fotorresistes.
- C. diminuir a espessura dos fotorresistes.
- D. reduzir a sensibilidade dos fotorresistes.
- E. atuar como filtros de UV em fotorresistes.
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