Questão número 515612
Engenharia de Telecomunicações - Eletrônica analógica e digital - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Considerando as etapas básicas do processo de fabricação CMOS (Complementary Metal-Oxide-Semiconductor) cavidade n, a etapa ou passo na qual são definidas as regiões ativas do dispositivo CMOS chama-se:
- A. Formação da porta de silício policristalino.
- B. Metalização.
- C. Difusão n+.
- D. Abertura das janelas de contato.
- E. LOCOS (oxidação local).
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