Questão número 515629

Quais das medidas a seguir se prestam a minimizar o cross talk, IR drop, interconnect noise e electromigration, respectivamente?

• A. Blindar de trilhas críticas, se possível com plano de terra; dimensionar corretamente a largura de uma trilha evitando cantos de 90° e variações bruscas na sua secção transversal; utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos de alto chaveamento e também utilizar anéis de guarda para coletar portadores minoritários; minimizar o número de quadrados numa trilha.
• B. Utilizar anéis de guarda aterrados; utilizar apenas trilhas de metal 1; aumentar o número de contatos e vias entre condutores; utilizar condutores de silício policristalino pois ele apresenta maior condutividade.
• C. Minimizar o número de quadrados numa trilha; utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos de alto chaveamento e também utilizar anéis de guarda para coletar portadores minoritários; dimensionar corretamente a largura de uma trilha evitando cantos de 90° e variações bruscas na sua secção transversal; blindar de trilhas críticas, se possível com plano de terra.
• D. Envolver blocos ruidosos em poços aterrados; empregar condutores de silício pois o mesmo apresenta maior condutividade; blindar trilhas críticas envolvendo-as em camadas de metal 2; utilizar condutores de silício policristalino pois o mesmo apresenta maior condutividade.
• E. Utilizar poços aterrados ou ligados a Vdd envolvendo blocos de alto chaveamento e também utilizar anéis de guarda para coletar portadores minoritários; minimizar o número de quadrados numa trilha; blindar de trilhas críticas, se possível com plano de terra; dimensionar corretamente a largura de uma trilha evitando cantos de 90° e variações bruscas na sua secção transversal.