Questão número 519849
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
A remoção de fotorresiste por plasma (Ashing) é realizada utilizando descarga em quais gases?
- A. Cl2
- B. SF6
- C. CF4
- D. O2
- E. N2
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