Questão número 519878
Engenharia Elétrica - Dispositivos Eletrônicos - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Quais das alternativas a seguir apresenta as etapas sequenciais do método padrão RCA para limpeza de lâminas de Si?
- A. 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: HCl:H2O, enxague em H2O.
- B. 1ª etapa com solução: HCl:H2O2:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: NH4OH:H2O2:H2O, enxague em H2O.
- C. 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O2:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: HCl:H2O2:H2O, enxague em H2O.
- D. 1ª etapa com solução: HCl:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: NH4OH:H2O, enxague em H2O.
- E. 1ª etapa com solução:NH4OH:H2O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: H2O2:H2O, enxague em H2O.
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