Questão número 519886
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Quando se utiliza a deposição química a partir da fase vapor enriquecida por plasma (PECVD)?
- A. Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas baixas, menores que 350ºC.
- B. Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas altas, maiores que 900ºC.
- C. Quando se necessita da deposição de filmes finos em temperaturas baixas, menores que 350ºC.
- D. Quando se necessita da difusão de dopantes em temperaturas altas, maiores que 900ºC.
- E. Quando se necessita da difusão e deposição de dopantes e filmes em qualquer temperatura.
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