Questão número 519891
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Qual a técnica utilizada para medir a espessura e o índice de refração de filmes de óxido de Si, de nitreto de Si e de silício policristalino, usados na tecnologia CMOS?
- A. Microscopia eletrônica de transmissão (TEM).
- B. Microscopia eletrônica de varredura (SEM).
- C. Microscopia de força atômica (AFM).
- D. Elipsometria.
- E. Perfilometria.
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