Questão número 519907
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Deposita-se a solução que contém o dopante no centro da lâmina de silício e, rapidamente, a mesma é colocada em alta rotação, de modo que a solução forme uma película homogênea sobre sua superfície. O processo de deposição ora descrito é conhecido como
- A. deposição física a partir de vapor à pressão atmosférica.
- B. deposição química de vapor melhorada por plasma.
- C. spin-on.
- D. deposição física a altas temperaturas.
- E. deposição física por Sputtering.
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