Questão número 519911

A principal técnica utilizada na deposição de polissilício é

  • A. spin-on.
  • B. deposição física a partir de vapor por Sputtering.
  • C. deposição química a partir de vapor melhorada por plasma.
  • D. deposição química a partir de vapor em baixa pressão.
  • E. deposição química a partir de vapor à pressão atmosférica.
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