Questão número 520056

Qual processo deve ser executado para corrigir os danos causados pela implantação de íons em lâmina de Si?

  • A. Oxidação térmica seca.
  • B. Recozimento térmico em ambiente inerte.
  • C. Deposição a partir da fase vapor.
  • D. Oxidação térmica úmida.
  • E. Tratamento térmico em ambiente de oxigênio.
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