Questão número 543622

Difusão, na fabricação de Circuitos Integrados, refere-se à migração forçada e controlada de impurezas no substrato. O perfil de impurezas resultante, que tem papel importante no desempenho do Circuito Integrado, é afetado pela temperatura e pelo tempo de difusão. Fontes de impurezas podem ser líquidas, gasosas e sólidas e são colocadas em contato com o silício do substrato. Dentre as impurezas gasosas, as mais usadas como dopantes do tipo p e dopantes do tipo n, respectivamente, são

• A. B₂H₆ e PH₃.
• B. PH₃ e AsH₃.
• C. PH₃ e B₂H₆.
• D. BCl₃ e B₂H₆.
• E. AsH₃ e BCl₃.