Questão número 565703
Engenharia Elétrica - Conceitos Básicos - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas
- A. perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.
- B. paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.
- C. paralelas, tubo horizontal e substrato único.
- D. paralelas, tubo vertical e substrato único.
- E. paralelas, tubo vertical e substrato duplo.
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