Questão número 565706
Engenharia Elétrica - Geral - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Uma vantagem do reator para deposição química a partir de vapor melhorada por plasma é
- A. o mecanismo simples.
- B. a elevada temperatura.
- C. a alta taxa de deposição.
- D. ser isento de contaminação.
- E. não ter vantagens.
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