Questão número 565707
Engenharia Elétrica - Conceitos Básicos - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Assinale uma desvantagem do processo de deposição química a partir de vapor melhorada por plasma.
- A. Contaminação química e por partículas.
- B. Elevada temperatura.
- C. Baixa taxa de deposição.
- D. Péssima cobertura de degrau.
- E. Não possui desvantagem.
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