Questões sobre Conceitos Básicos

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Que tipo de falha tipicamente necessita um teste de excesso de atraso?

  • A. Falha do tipo stuck-at 1.
  • B. Falha do tipo stuck-at 0.
  • C. Falha do tipo circuito aberto.
  • D. Falha do tipo circuito fechado.
  • E. Falha do tipo resistiva causando um caminha reagir mais lentamente.

Dentro das possíveis arquiteturas para DFT afirma-se o que segue.

I. Para possibilitar o autoteste integrado (‘built-in self test’) em um sistema, é necessária a presença de um bloco de geração automática de vetores de testes e compactação do resultado de teste com o respectivo mecanismo de analise de assinatura de falha.

II. O emprego de técnicas de boundary scan (JTAG) só é possível em sistemas cuja a técnica de testabilidade é o full scan (escaneamento completo).

III. Em mecanismos de compactação da resposta baseados em Multiple-Input Signature Register (MISR), emprega-se uma topologia baseada em Linear-Feedback-Shift-Register (LSFR) que possibilita a detecção de falhas e o diagnóstico preciso das falhas existentes bem como a reconstrução dos vetores aplicados.

Podemos dizer que:

  • A. Apenas I é verdadeira.
  • B. Apenas III é verdadeira.
  • C. Apenas I e II verdadeira.
  • D. Apenas I e III verdadeira.
  • E. I, II e III são verdadeiras.

Quais as unidades que representam, respectivamente, as grandezas condutância, força eletromotriz, frequência, indutância e intensidade de corrente?

  • A.

    coulomb, volt, lux, ampère e weber

  • B.

    ohm, volt, watt, farad e ampère

  • C.

    siemens, volt, hertz, henry e ampère

  • D.

    volt, watt, weber, henry e ohm

  • E.

    lux, ampère, volt, hertz, e siemens

No sistema internacional de unidades (SI), a classe das unidades de base é representada pelas seguintes unidades:

  • A.

    A/m, m, s

  • B.

    A/m, m2, s

  • C.

    A/m, m2, K

  • D.

    K, m, s

  • E.

    K, m2, A/m

Um eletricista de manutenção trabalha, em seu dia a dia, com plantas envolvendo dispositivos como transformadores chaves e disjuntores, dentre outros.

A seguir são apresentados alguns desses dispositivos.

1. Chave reversora

2. Chave seccionadora com abertura sem carga

3. Disjuntor a óleo

4. Disjuntor a seco

5. Transformador de potência

Qual símbolo representa, adequadamente, cada um desses equipamentos, sabendo-se que não foram informados, propositalmente, os valores nominais de cada um deles?

  • A.

  • B.

  • C.

  • D.

  • E.

Leia atentamente as afirmativas abaixo.

I – O plasma pode ser caracterizado por fluorescência de raios-X.

II – A espectrometria de emissão ótica é uma técnica de caracterização de plasma baseada na emissão de fótons característicos pelo plasma.

III – A espectrometria de emissão ótica possibilita a quantificação de espécies ativas e a medida da temperatura dos elétrons, dentre outras medidas possíveis.

Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s).

  • A. Apenas I está correta.
  • B. Apenas II está correta.
  • C. Apenas III está correta.
  • D. Apenas I e II estão corretas.
  • E. Apenas II e III estão corretas.

O teste de um sistema com 4 entradas necessita um conjunto de vetores de testes conforme mostrados abaixo.

T0 = 0X01

T1 = 1XX1

T2 = X001

T3 = X111

Usando o conceito de compactação dos vetores de teste acima, qual a menor sequência de vetores que surtiria o mesmo efeito na presença de falhas simples?

  • A. Aplicação dos vetores 0001 e 1001.
  • B. Aplicação dos vetores 0001, 1001 e 1111.
  • C. Aplicação dos vetores 1101 e 1011.
  • D. Aplicação dos vetores 0001 e 1111.
  • E. Não é possível compactar.

Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas

  • A. perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.
  • B. paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.
  • C. paralelas, tubo horizontal e substrato único.
  • D. paralelas, tubo vertical e substrato único.
  • E. paralelas, tubo vertical e substrato duplo.

Quanto aos reatores de deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD), é correto afirmar que

  • A. as frequências utilizadas estão na faixa dos raios-X e as pressões acima de 0,1 atm.
  • B. as frequências utilizadas estão na faixa da radiofrequência e das micro-ondas e as pressões são de até 0,01 atm.
  • C. as frequências utilizadas estão na faixa do ultravioleta e as pressões acima de 0,1 atm.
  • D. as frequências utilizadas estão na faixa dos raios-X e as pressões são de até 0,01 atm.
  • E. as frequências estão na faixa da radiofrequência e das micro-ondas e as pressões devem ser maiores que 0,1 atm.

O processamento térmico rápido (RTP) é usado para:

  • A. A obtenção de junções rasas.
  • B. A ativação de dopantes em porta de Si –policristalino.
  • C. A silicetação.
  • D. A obtenção de óxido de porta ultra-fino.
  • E. Todos os processos citados nas alternativas acima podem ser executados com o processamento térmico rápido.
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