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A temperatura do ar é igual a 270 K.
Engenharia Química - Geral - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
O processo químico de forma seca, através da remoção por plasma, pode ser realizado por meio da utilização de plasma de oxigênio, onde ocorre a oxidação do resiste, removendo-o da superfície. As remoções de resistes por meio de soluções líquidas são também usadas e preferidas nos processos de front end of the line (processo de fabricação frontal e de linha do Circuito Integrado), onde a superfície e o estreito canal de condução (fonte e dreno) do circuito são
A concentração da espécie A após 20 minutos é expressa por 2 × exp(-2) mol . L-1.
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Cérebro dos sistemas e equipamentos eletrônicos, os chips, semicondutores de silício, são constantemente aperfeiçoados, ganhando cada vez mais precisão, com peças menores e mais eficientes. Isso significa também o surgimento de uma preocupação obsessiva com a limpeza. Qualquer infinitesimal partícula de sal ou de contaminantes orgânicos remanescentes na água pode provocar passagem de corrente elétrica e consequentes curtos-circuitos entre os trilhos condutivos do chip, danificando os sofisticados equipamentos. Quanto menor for a distância entre os trilhos, o que se traduz por maior capacidade de transmitir informações, maior será a necessidade de ultrapurificar a água. Dentre os tratamentos usuais para a obtenção de água ultrapura, pode-se destacar o seguinte tratamento terciário:
A concentração da espécie C quando o tempo de reação é igual a 30 minutos equivale a 10 vezes a concentração da espécie B.
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Considerando que o transporte de energia radial ocorra em estado estacionário e unidirecional, julgue os itens subsequentes.
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Considerando que o transporte de energia radial ocorra em estado estacionário e unidirecional, julgue os itens subsequentes.
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