Questões de Engenharia Elétrica

No relé de potência, a rigidez dielétrica entre contatos abertos é dada em

• A.

  ampère.

• B.

  farad.

• C.

  ohm.

• D.

  volt.

• E.

  coulomb.

A simulação de um processo de oxidação térmica sobre uma lâmina de Si apresentou uma espessura total de 1000 nm do óxido de Si obtido. Qual a espessura da camada superficial de Si que foi consumida durante o processo de oxidação?

• A. Cerca de 660 nm
• B. Cerca de 330 nm
• C. Cerca de 550 nm
• D. Cerca de 440 nm
• E. Cerca de 220 nm

A etapa de síntese da malha de distribuição de relógio (CTS – clock tree synthesis) de um sistema digital deve ser feita:

• A. Durante a síntese lógica.
• B. Durante a simulação lógica.
• C. Durante o STA (static timing analysis).
• D. Após a disposição dos blocos no leiaute (placement).
• E. No momento da definição da arquitetura do sistema.

Um eletricista de manutenção trabalha, em seu dia a dia, com plantas envolvendo dispositivos como transformadores chaves e disjuntores, dentre outros.

A seguir são apresentados alguns desses dispositivos.

1. Chave reversora

2. Chave seccionadora com abertura sem carga

3. Disjuntor a óleo

4. Disjuntor a seco

5. Transformador de potência

Qual símbolo representa, adequadamente, cada um desses equipamentos, sabendo-se que não foram informados, propositalmente, os valores nominais de cada um deles?

• A.

  

• B.

  

• C.

  

• D.

  

• E.

  

• A.

  

• B.

  

• C.

  

• D.

  

• E.

  

A respeito de instalações elétricas de baixa tensão, julgue os itens subsequentes.

A utilização de equipamentos de proteção individuais e coletivos, quando for o caso, e a obrigatoriedade de que diagramas elétricos atualizados estejam acessíveis à equipe técnica são exigências de segurança previstas na legislação pertinente.

• C. Certo
• E. Errado

• A.

  de sinalização.

• B.

  fotoelétrico.

• C.

  com retardo no desligamento.

• D.

  com retardo na ligação.

• E.

  térmico.

No Sistema Elétrico Brasileiro existe uma pessoa jurídica com a função de executar as atividades de coordenação e controle da operação da geração e transmissão de energia elétrica nos sistemas interligados. Essa pessoa jurídica é denominada

• A. Usina Hidrelétrica de Itaipu.
• B. Agência Nacional de Energia Elétrica.
• C. Centro de Pesquisas de Energia Elétrica.
• D. Operador Nacional do Sistema Elétrico.

Por que se utiliza a lâmina de Si com orientação cristalina (100) para a fabricação de dispositivos para a tecnologia CMOS?

• A. Quando crescido o óxido de Si sobre a lâmina, apresenta a maior densidade de defeitos na interface entre SiO₂/Si.
• B. Não se utiliza a orientação (100) para a fabricação de dispositivos para a tecnologia CMOS e sim a orientação (110).
• C. Quando crescido o óxido de Si sobre a lâmina, apresenta a menor densidade de defeitos na interface entre SiO₂/Si.
• D. Quando crescido o óxido de Si sobre a lâmina, apresenta a menor densidade de defeitos na interface entre Si₃N₄/Si.
• E. Não se utiliza a orientação (100) para a fabricação de dispositivos para a tecnologia CMOS e sim a orientação (111).

No contexto da implementação física de um circuito integrado afirma-se o que segue. I. O efeito de eletromigração (EM) é decorrente da alta densidade de corrente e alternância de temperatura nas linhas de interconexão sendo uma das causas de ruptura ou falha mecânica das mesmas. II. O emprego de bibliotecas de células com múltiplos Vt (tensões de limiar dos transistores) objetiva a redução da corrente de fuga (leakage) em geometrias com canal mais curto. III. Efeitos de interferência entre trilhas de roteamento têm impacto no incremento do atraso na linha afetado degradando a integridade do sinal.

• A. Apenas I é verdadeira.
• B. Apenas II é verdadeira.
• C. Apenas I e II verdadeiras.
• D. Apenas I e III verdadeira.
• E. I, II e III são verdadeiras.