Questões de Engenharia Elétrica

• A.

  I

• B.

  II

• C.

  III

• D.

  I e II

• E.

  II e III

Considere os tipos de transformadores citados abaixo.

I. Transformador de alta frequência

II. Transformador de potencial

III. Transformador de força

IV. Transformador de corrente

São utilizados para realização de medidas APENAS

• A.

  I e II.

• B.

  II e III.

• C.

  II e IV.

• D.

  I e IV.

• E.

  I e III.

De acordo com a Lei nº 8.666/93, quando um órgão contrata a execução de uma obra com terceiros pelo regime de preço certo e total, ele o faz na forma de execução

• A.

  direta sob regime de empreitada integral.

• B.

  direta sob regime de empreitada por orçamento parcial.

• C.

  indireta sob regime de empreitada por orçamento unitário.

• D.

  indireta sob regime de empreitada por preço global.

• E.

  indireta sob regime de empreitada por preço unitário.

Leia atentamente as afirmativas abaixo.

I – O plasma pode ser caracterizado por fluorescência de raios-X.

II – A espectrometria de emissão ótica é uma técnica de caracterização de plasma baseada na emissão de fótons característicos pelo plasma.

III – A espectrometria de emissão ótica possibilita a quantificação de espécies ativas e a medida da temperatura dos elétrons, dentre outras medidas possíveis.

Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s).

• A. Apenas I está correta.
• B. Apenas II está correta.
• C. Apenas III está correta.
• D. Apenas I e II estão corretas.
• E. Apenas II e III estão corretas.

Quais das alternativas a seguir apresenta as etapas sequenciais do método padrão RCA para limpeza de lâminas de Si?

• A. 1ª etapa com solução:NH₄OH:H₂O, enxague em H2O; 2ª etapa com solução: HCl:H₂O, enxague em H₂O.
• B. 1ª etapa com solução: HCl:H₂O₂:H₂O, enxague em H₂O; 2ª etapa com solução: NH₄OH:H₂O₂:H₂O, enxague em H₂O.
• C. 1ª etapa com solução:NH₄OH:H₂O₂:H₂O, enxague em H₂O; 2ª etapa com solução: HCl:H₂O₂:H₂O, enxague em H₂O.
• D. 1ª etapa com solução: HCl:H₂O, enxague em H₂O; 2ª etapa com solução: NH₄OH:H₂O, enxague em H₂O.
• E. 1ª etapa com solução:NH₄OH:H₂O, enxague em H₂O; 2ª etapa com solução: H₂O₂:H₂O, enxague em H₂O.

O teste de um sistema com 4 entradas necessita um conjunto de vetores de testes conforme mostrados abaixo.

T0 = 0X01

T1 = 1XX1

T2 = X001

T3 = X111

Usando o conceito de compactação dos vetores de teste acima, qual a menor sequência de vetores que surtiria o mesmo efeito na presença de falhas simples?

• A. Aplicação dos vetores 0001 e 1001.
• B. Aplicação dos vetores 0001, 1001 e 1111.
• C. Aplicação dos vetores 1101 e 1011.
• D. Aplicação dos vetores 0001 e 1111.
• E. Não é possível compactar.

O fator de potência de uma carga pode ser obtido através da leitura direta de um medidor de fator de potência. Caso não se disponha de tal instrumento de medição, a mesma variável pode ser determinada através da análise das medições aferidas em

• A.

  um voltímetro, um amperímetro e um wattímetro

• B.

  um voltímetro, um amperímetro e um tacômetro

• C.

  um frequencímetro, um ohmímetro e um amperímetro

• D.

  um fasímetro, um wattímetro e um frequencímetro

• E.

  um fasímetro, um wattímetro e um ohmímetro

Sobre o motor trifásico de indução, é correto afirmar:

• A.

  Um par de polos é obtido pela montagem de três bobinas no estator dispostas a 120° e, nesse caso, a velocidade síncrona em 60 Hz é 1200 rpm.

• B.

  Um par de polos é obtido pela montagem de 2 conjuntos de três bobinas no estator dispostas a 60° e, nesse caso, a velocidade síncrona em 60 Hz é 1800 rpm.

• C.

  Dois pares de polos são obtidos pela montagem de 1 conjunto de três bobinas no estator dispostas a 120° e, nesse caso, a velocidade síncrona em 60 Hz é 1800 rpm.

• D.

  Dois pares de polos são obtidos pela montagem de 2 conjuntos de três bobinas no estator dispostas a 60° e, nesse caso, a velocidade síncrona em 60 Hz é 3600 rpm.

• E.

  Dois pares de polos são obtidos pela montagem de 2 conjuntos de três bobinas no estator dispostas a 60° e, nesse caso, a velocidade síncrona em 60 Hz é 1800 rpm.

Os 3 (três) tipos principais de reatores para deposição química de vapor melhorada por plasma (PECVD) são as placas

• A. perpendiculares, tubo horizontal e substrato único.
• B. paralelas, tubo horizontal e substrato duplo.
• C. paralelas, tubo horizontal e substrato único.
• D. paralelas, tubo vertical e substrato único.
• E. paralelas, tubo vertical e substrato duplo.

Assinale a alternativa que contém somente processos que retirem o fotorresiste.

• A. Limpeza piranha (solução H₂SO₄/H₂O₂) e processo com plasma de oxigênio.
• B. Limpeza RCA e corrosão com HCl.
• C. Limpeza piranha (solução H₂SO₄/H₂O₂) e limpeza RCA.
• D. Processo com plasma de oxigênio e limpeza RCA.
• E. Limpeza piranha (solução H₂SO₄/H₂O₂) e corrosão com solução de HCl.