Questões de Engenharia Elétrica

As afirmativas abaixo se referem ao reator de deposição química a partir de vapor em baixa pressão. I – Na deposição química a partir de vapor em baixas temperaturas, é possível se posicionar os wafers na vertical, com espaçamento bastante reduzido entre eles, proporcionando o posicionamento de grande número de wafers no interior da câmara, o que compensa as baixas taxas de deposição em relação à deposição química, a partir de vapor à pressão atmosférica. II – Como os gases reagentes são consumidos ao entrarem em contato com os wafers, a concentração de gases reagentes próxima à entrada da mistura de gases é maior do que a concentração de gases reagentes próxima à saída dos gases. III - O estabelecimento de um gradiente de temperatura no interior da câmara, com o aumento da temperatura no sentido contrário ao fluxo de gases (temperatura maior na entrada e menor na saída dos gases) é fundamental para aumentar a uniformidade dos wafers. Assinale a alternativa com a(s) afirmativa(s) correta(s):

• A. I, II, III estão corretas.
• B. Apenas I e II estão corretas.
• C. Apenas III está correta.
• D. Apenas I e III estão corretas.
• E. Apenas II está correta.

• A.

  5.

• B.

  10.

• C.

  15.

• D.

  20.

• E.

  30.

Com base nos conceitos de eletromagnetismo, julgue os itens a seguir.

A direção da força elétrica exercida por um campo eletrostático em uma partícula estática carregada é perpendicular à direção desse campo.

• C. Certo
• E. Errado

• A.

  

• B.

  

• C.

  

• D.

  

• E.

  

Os materiais, de acordo com sua condutividade, são classificados como condutores ou não condutores, ou, ainda, como metais ou isolantes (dielétricos). Acerca de materiais e suas propriedades, julgue os próximos itens.

A condutividade de material submetido a determinada excitação independe da frequência, mas sempre depende da temperatura.

• C. Certo
• E. Errado

A seguir, são apresentadas algumas vantagens de diferentes processos de deposição química a partir de vapor.

I – Reator simples.

II – Altas taxas de deposição.

III – Excelente pureza e uniformidade.

IV – Baixa temperatura.

Assinale a alternativa que apresenta a(s) vantagem(ns) da deposição química a partir de vapor em baixa pressão.

• A. Apenas I.
• B. Apenas I e II.
• C. Apenas III.
• D. Apenas II e III.
• E. Apenas III e IV.

Apresenta, respectivamente, a resistência equivalente de 3 resistores de 15kΩ em paralelo, a capacitância equivalente de 3 capacitores de 15nF em paralelo e a indutância equivalente de 3 indutores de 15μH em paralelo:

• A.

  

• B.

  

• C.

  

• D.

  

• E.

  

• A.

  0,00

• B.

  0,25

• C.

  0,50

• D.

  0,86

• E.

  1,00

• A.

  cabos unipolares ou cabo multipolar em bandeja perfurada, horizontal ou vertical.

• B.

  cabo multipolar em eletroduto de seção circular embutido em parede termicamente isolante.

• C.

  cabos unipolares ou cabo multipolar em eletroduto de seção não circular embutido em alvenaria.

• D.

  cabo multipolar em eletroduto aparente de seção não circular sobre parede.

• E.

  condutores isolados ou cabos unipolares em eletroduto de seção circular embutido em alvenaria.

Os materiais, de acordo com sua condutividade, são classificados como condutores ou não condutores, ou, ainda, como metais ou isolantes (dielétricos). Acerca de materiais e suas propriedades, julgue os próximos itens.

A condutividade dos metais geralmente aumenta significativamente com o aumento da temperatura, como é o caso do que ocorre com o chumbo e o alumínio.

• C. Certo
• E. Errado