Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012
Lista completa de Questões de Engenharia Elétrica do ano 2012 para resolução totalmente grátis. Selecione os assuntos no filtro de questões e comece a resolver exercícios.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
A remoção de fotorresiste por plasma (Ashing) é realizada utilizando descarga em quais gases?
- A. Cl2
- B. SF6
- C. CF4
- D. O2
- E. N2
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
A principal técnica utilizada para detecção de ponto final de corrosão de Si é:
- A. Elipsometria.
- B. Perfilometria.
- C. Espectroscopia de emissão ótica.
- D. Sonda Langmuir.
- E. Espectrometria de massa.
Engenharia Elétrica - Dispositivos Eletrônicos - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Comparando-se os danos (defeitos) produzidos na camada superficial de material durante corrosão RIE convencional (acoplamento capacitivo) e ICP, observa-se o seguinte:
- A. Danos menores durante ICP.
- B. Danos menores durante RIE.
- C. Depende da temperatura do processo.
- D. Depende da temperatura do gás.
- E. Depende do tamanho da lamina.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Qual a principal aplicação de plasmas na microeletrônica?
- A. Litografia.
- B. Limpeza de amostras.
- C. Metalização.
- D. Corrosão seca.
- E. Corrosão úmida.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Para detecção do ponto final de corrosão de lâminas de Si pela espectroscopia ótica, são utilizados sinais de emissão de radicais presentes no plasma:
- A. Radicais O
- B. Radicais SF5
- C. Radicais F
- D. Radicais C
- E. Radicais OH
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Qual a finalidade da fase do processo RIE chamada breakthrough?
- A. Corrosão da camada de oxido nativo.
- B. Corrosão do filme de Si.
- C. Remoção de fotorresiste.
- D. Limpeza da amostra.
- E. Remoção de silício sobrando depois da corrosão.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Maior seletividade em processos de corrosão de SiO2 em comparação com Si, é obtida com misturas de gases incluindo:
- A. O2 e SF6
- B. Cl2 e H2
- C. Cl2 e Ar
- D. CF4 e H2
- E. SF6 e H2
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Maior anisotropia na corrosão de Si por plasma é obtida em misturas de gases com inclusão de gases:
- A. SF6
- B. CF4
- C. Cl2
- D. HBr
- E. CH4
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Na corrosão tipo RIE (reactive ion etching), o efeito sinergético aparece por causa de interação de que fatores?
- A. Alta temperatura dos elétrons e dos íons.
- B. Alta energia de íons e o aquecimento da amostra.
- C. Alta energia de íons e o aquecimento do eletrodo.
- D. Bombardeamento iônico e amorfização do material por radicais reativos.
- E. Irradiação da amostra por fótons UV e bombardeamento iônico.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Temperatura dos elétrons no plasma é maior em qual descarga?
- A. ICP.
- B. Acoplamento capacitivo.
- C. Atmosférica.
- D. Plasma remoto.
- E. ECR.
O Provas e Concursos é um banco de dados de questões de concursos públicos organizadas por matéria, assunto, ano, banca organizadora, etc
