Questões sobre Princípios de Ciências dos Materiais
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Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
- A. 16 ìm.
- B. 32 ìm.
- C. 64 ìm.
- D. 320 ìm.
- E. 160 ìm.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Quais as principais vantagens de plasmas de alta densidade tipo ICP (acoplamento indutivo) em comparação com plasmas com acoplamento capacitivo, para processos de corrosão?
- A. Maior aquecimento de amostras durante a corrosão.
- B. Controle independente de densidade do plasma e da autopolarização (self-bias).
- C. Taxas de corrosão mais altas.
- D. Danos em materiais menores.
- E. Pressão de gás menor.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
A remoção de fotorresiste por plasma (Ashing) é realizada utilizando descarga em quais gases?
- A. Cl2
- B. SF6
- C. CF4
- D. O2
- E. N2
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
A principal técnica utilizada para detecção de ponto final de corrosão de Si é:
- A. Elipsometria.
- B. Perfilometria.
- C. Espectroscopia de emissão ótica.
- D. Sonda Langmuir.
- E. Espectrometria de massa.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Qual a principal aplicação de plasmas na microeletrônica?
- A. Litografia.
- B. Limpeza de amostras.
- C. Metalização.
- D. Corrosão seca.
- E. Corrosão úmida.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Para detecção do ponto final de corrosão de lâminas de Si pela espectroscopia ótica, são utilizados sinais de emissão de radicais presentes no plasma:
- A. Radicais O
- B. Radicais SF5
- C. Radicais F
- D. Radicais C
- E. Radicais OH
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Qual a finalidade da fase do processo RIE chamada breakthrough?
- A. Corrosão da camada de oxido nativo.
- B. Corrosão do filme de Si.
- C. Remoção de fotorresiste.
- D. Limpeza da amostra.
- E. Remoção de silício sobrando depois da corrosão.
Engenharia Elétrica - Princípios de Ciências dos Materiais - FUNRIO Fundação de Apoio a Pesquisa, Ensino e Assistência (FUNRIO) - 2012
Maior seletividade em processos de corrosão de SiO2 em comparação com Si, é obtida com misturas de gases incluindo:
- A. O2 e SF6
- B. Cl2 e H2
- C. Cl2 e Ar
- D. CF4 e H2
- E. SF6 e H2
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Maior anisotropia na corrosão de Si por plasma é obtida em misturas de gases com inclusão de gases:
- A. SF6
- B. CF4
- C. Cl2
- D. HBr
- E. CH4
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Na corrosão tipo RIE (reactive ion etching), o efeito sinergético aparece por causa de interação de que fatores?
- A. Alta temperatura dos elétrons e dos íons.
- B. Alta energia de íons e o aquecimento da amostra.
- C. Alta energia de íons e o aquecimento do eletrodo.
- D. Bombardeamento iônico e amorfização do material por radicais reativos.
- E. Irradiação da amostra por fótons UV e bombardeamento iônico.
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